АО НИИТМ

Установка вакуумная МАГНА ТМ 300 16КВТ нанесения пленок методом магнетронного распыления и шлюзовой загрузкой из кассеты в кассету

Установка вакуумная МАГНА ТМ 22 20КВТ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ СО ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ

Установка вакуумная МАГНА ТМ 29 25КВТ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ СО ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ ИЗ КАССЕТЫ В КАССЕТУ

Установка вакуумная Четырёхпозиционная ЭЛИМ ТМ 5 20КВТ нанесения плёнок методом магнетронного распыления и электронно-лучевого испарения со шлюзовой загрузкой

Установка вакуумная МАЛОГАБАРИТНАЯ МВУ ТМ МАГНА 12 4.5КВТ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛА НА ПОДЛОЖКУ

Установка вакуумная ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ СЛОЕВ ПЛАЗМА ТМ 300 21КВТ С ICP ИСТОЧНИКОМ И ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ ИЗ КАССЕТЫВ КАССЕТУ

Установка вакуумная реактивно-ионного травления слоёв ПЛАЗМА ТМ 7 3КВТ со шлюзовой загрузкой

Установка вакуумная РЕАКТИВНО-ИОННОГО ТРАВЛЕНИЯ СЛОЕВ ПЛАЗМА ТМ 8 12КВТ СО ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ ИЗ КАССЕТЫ В КАССЕТУ

Установка вакуумная ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ СЛОЕВ ПЛАЗМА ТМ 9 7КВТ С ICP ИСТОЧНИКОМ

Установка вакуумная ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ ИЗОФАЗ ТМ 300 21КВТ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ С ICP ИСТОЧНИКОМ И ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ ИЗ КАССЕТЫ В КАССЕТУ

Установка вакуумная Четырёхпозиционная нанесения плёнок методом магнетронного распыления со шлюзовой загрузкой МАГНА ТМ 5 20КВТ

Установка вакуумная нанесения плёнок методом магнетронного распыления МАГНА ТМ 7 4.5КВТ

Установка вакуумная МАЛОГАБАРИТНАЯ ГЛУБОКОГО АНИЗОТРОПНОГО ТРАВЛЕНИЯ МВУ ТМ ПЛАЗМА 06 5.5КВТ

Установка вакуумная МАЛОГАБАРИТНАЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЙ ОЧИСТКИ, УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА И СТЕРИЛИЗАЦИИ ПЛАЗМА ТМ 4 4.5КВТ

Установка вакуумная Промышленно-ориентированный технологический комплекс Кластер ТМ 200 для реализации базовых технологических процессов (БТП) в производстве широкой номенклатуры электронной компонентной базы (ЭКБ) на предприятиях радиоэлектронной промышленности

Установка вакуумная со шлюзовой загрузкой из кассеты в кассету МАГНА ТМ 200-01к 16КВТ нанесение многокомпонентных и многослойных металлических или диэлектрических тонких пленок на подложки (пластины) методом магнетронного распыления АО НИИТМ

Установка вакуумная со шлюзовой загрузкой МАГНА ТМ 200-01 16КВТ нанесение многокомпонентных и многослойных металлических или диэлектрических тонких пленок на подложки (пластины) методом магнетронного распыления АО НИИТМ

Установка вакуумная со шлюзовой загрузкой из кассеты в кассету МАГНА ТМ 200-04К 15КВТ нанесение магнетронным распылением алюминиевой (Al) металлизации, формирование адгезионных, барьерных (Ta/TaN, Ti/TiN) и зародышевых медных (Cu)слоев для перемычек в контактных и переходных отверстиях межслойных соединений и др. АО НИИТМ

Установка вакуумная со шлюзовой загрузкой Магна ТМ 200-04 нанесение магнетронным распылением алюминиевой (Al) металлизации, формирование адгезионных, барьерных (Ta/TaN, Ti/TiN) и зародышевых медных (Cu)слоев для перемычек в контактных и переходных отверстиях межслойных соединений и др. АО НИИТМ

Установка вакуумная с ICP источником и шлюзовой загрузкой из кассеты в кассету Плазма ТМ 200-01 14КВТ плазмохимическое травление поликристаллического кремния и нитрида кремния (мелкощелевая изоляция в кремнии) АО НИИТМ