Для эффективного участия в торгах и быстрого начала работы на ЭТП ГПБ рекомендуем вам воспользоваться услугой сопровождения.

Обратный звонок
Обратная связь
На новый сайт
  • 8 800 222-07-60
  • +7 495 150-06-61
  • На связи 24/7
    • Обратный звонок
    Добавлено в корзину!
    Отправить запрос
    Удалено из корзины
    Главная / Торговый портал / Каталог

    Торговый портал

    Реестр поставщиковО порталеПоиск по: ОКПД2

    Импортные товарыСделано в России

    Сортировать по
    Оборудование специального назначения прочее, не включенное в другие группировки
    Дата обновления: 08.05.2024
    Установка вакуумная бензиновая Лессорб ВАУ-1к/300ст-ВСБ 9.5КВТ для сбора жидких веществ и смесей нефти и нефтепродуктов, сорбентов и твердых частиц размером до 10ММ насос роторно-пластинчатый КО-522 300Л 860х840х1660ММ/940х850х760ММ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная со шлюзовой загрузкой из кассеты в кассету МАГНА ТМ 200-01к 16КВТ нанесение многокомпонентных и многослойных металлических или диэлектрических тонких пленок на подложки (пластины) методом магнетронного распыления АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная со шлюзовой загрузкой МАГНА ТМ 200-01 16КВТ нанесение многокомпонентных и многослойных металлических или диэлектрических тонких пленок на подложки (пластины) методом магнетронного распыления АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная со шлюзовой загрузкой из кассеты в кассету МАГНА ТМ 200-04К 15КВТ нанесение магнетронным распылением алюминиевой (Al) металлизации, формирование адгезионных, барьерных (Ta/TaN, Ti/TiN) и зародышевых медных (Cu)слоев для перемычек в контактных и переходных отверстиях межслойных соединений и др. АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная со шлюзовой загрузкой Магна ТМ 200-04 нанесение магнетронным распылением алюминиевой (Al) металлизации, формирование адгезионных, барьерных (Ta/TaN, Ti/TiN) и зародышевых медных (Cu)слоев для перемычек в контактных и переходных отверстиях межслойных соединений и др. АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная с ICP источником и шлюзовой загрузкой из кассеты в кассету Плазма ТМ 200-01 14КВТ плазмохимическое травление поликристаллического кремния и нитрида кремния (мелкощелевая изоляция в кремнии) АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная с ICP источником плазмы и шлюзовой загрузкой из кассеты в кассету Плазма ТМ 200-01К 14КВТ плазмохимическое травление поликристаллического кремния и нитрида кремния (мелкощелевая изоляция в кремнии) АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная с ICP источником и шлюзовой загрузкой Плазма ТМ 200-02 19КВТ глубокое плазмохимическое анизотропное травление кремния в производстве МЭМС, НЭМС, сборок 2,5D и 3D, а так же сквозных высокоаспектных отверстий и др. на базе Bosh-процесса АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная шлюзовой загрузкой из кассеты в кассету Плазма ТМ 200-02К 19КВТ глубокое плазмохимическое анизотропное травление кремния в производстве МЭМС, НЭМС, сборок 2,5D и 3D, а так же сквозных высокоаспектных отверстий и др. на базе Bosh-процесса АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная со шлюзовой загрузкой Плазма ТМ 200-03 15.5КВТ высокоселективные процессы плазмохимического удаления фоторезистивной маски и травления органических полимеров АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная со шлюзовой загрузкой из кассеты в кассету Плазма ТМ 200-03К 16КВТ высокоселективные процессы плазмохимического удаления фоторезистивной маски и травления органических полимеров АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная со шлюзовой загрузкой Плазма ТМ 200-04 атомно-слоевое травление оксида кремния, кремния и очистка поверхности
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная со шлюзовой загрузкой из кассеты в кассету Плазма ТМ 200-04К атомно-слоевое травление оксида кремния, кремния и очистка поверхности АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная плазмохимического осаждения слоев из газовой фазы с ICP источником и шлюзовой загрузкой ИЗОФАЗ ТМ 200-01 14КВТ атомно-слоевое осаждение сверхтонких пленок АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная плазмохимического осаждения слоев из газовой фазы с ICP источником и шлюзовой загрузкой из кассеты в кассету ИЗОФАЗ ТМ 200-01К 14КВТ атомно-слоевое осаждение сверхтонких пленок АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная плазмохимического осаждения слоев с ICP источником плазмы со шлюзовой загрузкой ИЗОФАЗ ТМ 200-02 формирование щелевой изоляции заполнением отверстий диэлектриком, межслойной изоляции осаждением диэлектрика на металлические шины и заполнение зазоров между ними, изолирующего слоя (SiO2, Si3N4) на стенках контактных и переходных отверстий межслойных соединений и др. АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев
    Дата обновления: 03.10.2023
    Установка вакуумная плазмохимического осаждения слоев с ICP источником плазмы со шлюзовой загрузкой ИЗОФАЗ ТМ 200-02к формирование щелевой изоляции заполнением отверстий диэлектриком, межслойной изоляции осаждением диэлектрика на металлические шины и заполнение зазоров между ними, изолирующего слоя (SiO2, Si3N4) на стенках контактных и переходных отверстий межслойных соединений и др. АО НИИТМ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование специального назначения прочее, не включенное в другие группировки
    Дата обновления: 19.05.2022
    Установка вакуумная МАГНА ТМ 300 16КВТ нанесения пленок методом магнетронного распыления и шлюзовой загрузкой из кассеты в кассету
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование специального назначения прочее, не включенное в другие группировки
    Дата обновления: 19.05.2022
    Установка вакуумная МАГНА ТМ 22 20КВТ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ СО ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ
    Оборудование специального назначения прочее, не включенное в другие группировки
    Дата обновления: 19.05.2022
    Установка вакуумная МАГНА ТМ 29 25КВТ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ СО ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ ИЗ КАССЕТЫ В КАССЕТУ
    Не указана
    Единица измерения:
    ШТ

    Сведения, размещенные в настоящем каталоге, не являются рекламой, носят исключительно информационно-справочный характер и предназначены для информирования заказчиков о перечне товаров, работ, услуг, закупка которых возможна на Торговом портале.

    В каталоге заказчик может найти товары по названию, категории или коду ОКПД2 и добавить требуемое количество товаров в корзину.

    Если заказчик готов приобрести товар, то после публикации ценового запроса на Торговом портале, появится возможность осуществить сбор предложений по стоимости и условиям продажи товаров, работ, услуг и оформить заказ у поставщика.

    С инструкциями можно ознакомиться здесь.

    Станьте поставщиком и разместите свои товары и услуги на нашем портале

    Если Вы являетесь поставщиком и хотите участвовать в ценовых запросах Заказчиков ЭТП ГПБ, узнайте подробнее об участии.

    Технические вопросы: feedback@etpgpb.ru
    Общие вопросы: 8-800-100-66-22
    Вопросы по загрузке позиций прайс-листов: klass@etpgpb.ru

    Позвонить